是专为电感类电子元件（如线圈、磁芯、电感器等）设计的电镀加工设备，其特点是采用双滚筒结构，结合滚镀工艺，以实现小型电感元件的高效、均匀镀层处理。
双滚筒设计：两个滚筒可同时或交替运行，一桶装卸时另一桶持续工作，减少停机时间，提升产能。
滚筒优化：采用绝缘耐腐蚀材质（如PP），开孔设计促进镀液流通，防缠绕结构适配电感元件的细小特性。
滚镀工艺：元件在滚筒内翻滚，通过电流作用均匀沉积镀层（如镍、锡、银），双桶可调控转速、电流等参数。
高效连续生产：双桶交替作业支持大规模电镀，尤其适合贴片电感（SMD）、磁环等小件批量处理。
镀层均匀稳定：滚筒旋转避免元件堆积死角，结合阴极导电设计，确保复杂形状表面镀覆一致性。
低损伤高适配：柔和翻滚减少碰撞损耗，可适配防腐、可焊、导电等多种镀层工艺需求。
典型场景：贴片电感、绕线电感、磁芯等镀镍（抗氧化）、镀锡（焊接）或镀银（高导）处理。
关键注意：需匹配元件尺寸选择滚筒孔径，定期维护镀液成分及导电触点，避免漏料或镀层缺陷。 纳米镀层设备通过超声搅拌与脉冲电源结合，制备微米级致密镀层，满足航空航天部件的超高防腐需求。深圳电子元器件电镀设备
龙门式自动线通过龙门机械手（横跨电镀槽上方的移动框架）和悬挂系统，将工件按预设程序在不同工艺槽（如除油、电镀、水洗等）间自动转移，全程由PLC（可编程逻辑控制器）控制，实现无人化连续生产。
组成
1.龙门机械
手采用伺服电机驱动，双立柱+横梁结构，负载能力可达200-1000kg行程精度：±0.1mm（机型可达±0.05mm）移动速度：水平0.5-2m/s，升降0.2-0.5m/s
2.轨道系统
精密导轨+齿轮齿条传动，支持多工位并行作业防腐蚀设计（不锈钢或镀层保护），适应酸碱环境
3.挂具系统
定制化夹具，适配不同工件形状（如支架、吊篮）导电触点采用银/铜复合材料，接触电阻＜0.05Ω
4.控制系统
PLC+触摸屏（HMI），预设上百种工艺配方实时监控电流、温度、pH值，数据存储追溯
深圳陶瓷元器件镀金电镀设备贵金属电镀设备配备高精度电源与净化系统，严格控制金、银镀层纯度，满足珠宝及电子芯片的高要求。
1.前处理：晶圆清洗、去氧化层、活化表面。
2.装载：将晶圆固定于旋转载具，浸入镀液。
3.电镀：
施加电流，金属离子在晶圆表面还原沉积。
旋转载具确保镀液流动均匀，消除厚度差异。
4.后处理：镀层退火、清洗、干燥。
1.高均匀性：
旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象，镀层均匀性达±5%以内。
2.精密控制：电流密度精度：±1 mA/cm²；温度波动：±0.5℃。
3.洁净度保障：设备内建HEPA过滤系统，满足Class 1000以下洁净环境。
4.高效生产：支持多片晶圆同时处理（如6片/批次），UPH（每小时产量）可达50~100片。
1.先进封装：2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。
2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金属化（镀银、镀镍）。
3.传感器与MEMS：微结构表面镀金，提升电气性能与可靠性。
一、设备概述:
适用于电镀锌、镀镍、镀锡、镀铬、镀铜、镀镉等有色金属；镀金、镀银等贵重金属的精密电镀。
降低孔隙率，晶核的形成速度大于成长速度，促使晶核细化。
改善结合力，使钝化膜击穿，有利于基体与镀层之间牢固的结合。
改善覆盖能力和分散能力，高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积，挂镀生产线设备，减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷，对于获得一个给定特性镀层的厚度可减少到原来1/3~1/2，节省原材料。
降低镀层的内应力，改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等，容易得到无裂纹的镀层，减少添加剂。
有利于获得成份稳定的合金镀层。
改善阳极的溶解，不需阳极活化剂。
改进镀层的机械物理性能，如提高密度，降低表面电阻和体电阻，提高韧性、耐磨性、抗蚀性，而且可以控制镀层硬度。 镀铬设备需配置铅合金阳极与阳极袋，防止杂质污染电解液，确保硬铬镀层的高硬度与耐磨性。
按电镀工艺药剂添加
分化学镍自动加药设备：通过先进传感器和控制系统，实时监测化学镍溶液浓度、pH值、温度等参数，依预设工艺要求自动调整添加剂加入量，保障溶液稳定性，提高电镀产品一致性与质量。还具备高效节能特点，减少化学品浪费与环境污染，同时减轻工人劳动强度。
电镀药水全自动添加系统：如秒准MAZ-XR300A18，基于莫塞莱定律和比尔-朗伯定律，利用软X射线和可见光谱对电镀液中金属离子（如Ni²⁺、Sn²⁺等）和非金属组分（如磷酸、氢氧化钠等添加剂）进行定性、定量分析。具备自清洗功能，支持多通道采样，可全组分在线分析，适用于高温强腐蚀性环境，安全性高。
pH自动加药机：用于维持电镀液pH值稳定。电镀过程中，pH值变化会影响镀层质量，该设备通过pH传感器实时监测，当pH值偏离设定范围，自动控制加酸或加碱泵添加相应药剂，使pH值保持在合适区间。
光亮剂自动加药机：光亮剂能提升电镀层光亮程度和表面质量。此设备依据电镀液中光亮剂浓度变化，自动添加光亮剂，保证镀层外观质量稳定，避免因光亮剂不足或过量导致镀层发暗、出现条纹等问题。 镀铜设备的阳极磷铜板定期活化处理，维持表面活性，稳定铜离子浓度，保障镀层沉积速率。深圳陶瓷元器件镀金电镀设备
喷淋式电镀设备利用高压喷头将电解液均匀喷洒在工件表面，加速离子交换，提高电镀效率，形状复杂的工件。深圳电子元器件电镀设备
工艺优化与镀液研发：可探索电镀工艺参数（如镀液成分、电流密度、温度等）对镀层质量的影响，通过调控参数分析镀层的厚度、均匀性、光泽度等指标，为工业化生产筛选比较好工艺方案。同时，支持新型镀液配方的小试实验，评估镀层的耐腐蚀性、耐磨性等性能，助力环保型、功能性镀液的开发与改良。
精细制备小批量样品：在科研场景中，能精确控制电镀过程，为材料科学、表面工程等领域提供少量高质量样品，用于微观结构分析、成分分布检测等基础研究；在产品开发阶段，可快速制备电镀试样，帮助企业验证新产品的外观与性能，提前优化设计，降低大规模生产的试错成本。
教学实践与科普展示：作为教育工具，支持学生亲身体验电镀原理与操作流程，通过调节参数观察实验现象，培养实践动手能力与科学思维；在科普活动中，以直观的电镀过程演示，向公众展示表面处理技术的魅力，激发对材料科学的兴趣。其紧凑设计与灵活可控性，使其成为连接理论研究与实际应用的关键桥梁，兼具科研价值、生产指导意义与教育功能。编辑分享 深圳电子元器件电镀设备
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